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協同インターナショナルの半導体露光装置

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3 点の製品

株式会社協同インターナショナル

ナノパターン露光装置 PhableR 100

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PhableR100はタルボ効果を用いることにより周期構造に対して ハーフピッチ150nmの微細で一括露光できる特殊な装置です。 電子ビーム描画...


株式会社協同インターナショナル

ナノパターン露光装置"PhableR 100"

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■PhableR 100は、300nmピッチ以下の高解像度を実現 ・PhableR 100 は、EULITHA社独自の露光技術であるPHABLE (Photonics Enablerの短縮...


株式会社協同インターナショナル

エッジビード露光システム 量産用向け Model2000

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Model 2000はフラッド露光またはエッジビード露光が可能なフルオートマチックタイプの装置です。シャドウマスク技術が貴重なエッジビー...


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