タツモの洗浄装置
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8 点の製品がみつかりました
タツモ株式会社
リン酸プロセス装置 リン酸再生装置 PSYRION
20人以上が見ています
最新の閲覧: 37分前
窒化膜エッチングに用いられる熱リン酸は、プロセス処理により生成される珪素の濃度が上昇するため、定常的に新液への交換が必要になります。この珪素を弊社...
タツモ株式会社
リン酸プロセス装置 珪素濃度調整装置
20人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
熱リン酸プロセスでは、処理槽内の薬液交換を行った直後には珪素濃度が低過ぎるため、ダミー処理を行う必要があり、生産性が低下してしまうという問題が発生...
タツモ株式会社
リン酸プロセス装置 リン酸高温循環装置 NISON ® 1800
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NISON®1800は、熱リン酸による窒化膜エッチングに必要不可欠な装置として長年に渡り半導体業界で広く採用されてきました。その機能は、多くのユーザーより高...
タツモ株式会社
半導体製造装置 洗浄装置 リフトオフシステム VAP200TM/VAP300TM
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最新の閲覧: 39分前
バッチ浸漬式洗浄モジュールと枚葉式洗浄モジュールを複合させたユニークな装置構成と なっており、フォトレジストやフィルムの剥離処理に適した洗浄装置です...
タツモ株式会社
Quark紫外線照射装置 Excimer Lamp 172nm エキシマ照射装置 フラットタイプ
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最新の閲覧: 20時間前
■アプリケーション例 ・フォトマスク検査前除電 ・ウェハ除電 (回路破損防止) ・ガラス表面有機物除去 (ドライクリーニング) ・コート前表面改質 (密着性向...
タツモ株式会社
Quark紫外線照射装置 Excimer Lamp 222nm 除菌用紫外線ライト「eVIO」-エヴィオ-
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最新の閲覧: 13時間前
eVIOは、紫外線本来のウィルス抑制・除菌能力を保持したまま、人や動物の身体への影響を抑える先進技術によって、従来の紫外線波長では不可能だった有人環境...
タツモ株式会社
Quark紫外線照射装置 UV-LED照射装置 面照射型ユニット (SQ/CIシリーズ)
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最新の閲覧: 23時間前
■アプリケーション例 ・レジスト硬化 ・ナノインプリント硬化 ・ダイシングテープ剝離 ・貼り合わせUV硬化 ・ブリーチング ・分光/検査用光源 ■UV-LED導入...
タツモ株式会社
Quark紫外線照射装置 UV-Laser
20人以上が見ています
最新の閲覧: 9時間前
■アプリケーション例 ・レーザーリフトオフ (WLP , PLPなど) ・フレキシブル材微細加工 (PI,銅など) ・マイクロビアホール穿孔 ・ファイバーブラッググレー...
