タツモの希釈装置
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3 点の製品がみつかりました
タツモ株式会社
CMPスラリー供給システム スラリー希釈混合 供給システム New MX2000
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最新の閲覧: 1日前
New MX2000は、CMP工程で使用する各種スラリーの希釈 混合および供給を行う装置です。研磨剤粒子の凝集を抑制する為、ポンプを使用しないユニークな供給方式...
タツモ株式会社
CMPスラリー供給システム デュアルエンジン スラリー 希釈混合供給システム iSIS1200J
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最新の閲覧: 5時間前
iSIS1200Jは、2つのキャビネットそれぞれに混合部、供給部、タンクを搭載した装置です。冗長性によるダウンタイムの防止、メンテナンス時のバックアップ運転...
タツモ株式会社
CMPスラリー供給システム 粉体酸化剤 (APS) 溶解・供給システム
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最新の閲覧: 17時間前
メタルCMP工程で使用される粉体状の酸化剤 (APS) に対応した装置です。オンサイトで粉体の溶解、水溶液の濃度調整、CMPへの 供給が行えます。 ■製品特徴 ・...
