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使用用途

#半導体工程

制御方式

自動制御型

構成形態

据置型

特徴機能

多液混合型

タツモの希釈装置

2 点の製品がみつかりました

2 点の製品

タツモ株式会社

CMPスラリー供給システム スラリー希釈混合 供給システム New MX2000

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最新の閲覧: 19時間前

New MX2000は、CMP工程で使用する各種スラリーの希釈 混合および供給を行う装置です。研磨剤粒子の凝集を抑制する為、ポンプを使用しな...


タツモ株式会社

CMPスラリー供給システム デュアルエンジン スラリー 希釈混合供給システム iSIS1200J

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最新の閲覧: 1日前

iSIS1200Jは、2つのキャビネットそれぞれに混合部、供給部、タンクを搭載した装置です。冗長性によるダウンタイムの防止、メンテナンス...


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タツモの希釈装置2製品中の注目ランキング

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