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テクノビジョンの半導体洗浄装置

7 点の製品がみつかりました

7 点の製品

株式会社テクノビジョン

洗浄装置 フォトマスク洗浄装置 TWE-200

50人以上が見ています

最新の閲覧: 3時間前

■製品概要 フォトマスクのクリーン化は、製品歩留まり向上の必須条件。半導体製造工程で使用されるパターンをガラス等に形成し原版とす...


株式会社テクノビジョン

洗浄装置 フォトマスク洗浄装置 TW-300

30人以上が見ています

■製品概要 フォトマスクのクリーン化は、製品歩留まり向上の必須条件。半導体製造工程で使用されるパターンをガラス等に形成し原版とす...


株式会社テクノビジョン

洗浄装置 フォトマスク洗浄装置 TW-700

30人以上が見ています

■製品概要 フォトマスクのクリーン化は、製品歩留まり向上の必須条件。半導体製造工程で使用されるパターンをガラス等に形成し原版とす...


株式会社テクノビジョン

洗浄装置 フォトマスク洗浄装置 TW-1000

40人以上が見ています

■製品概要 フォトマスクのクリーン化は、製品歩留まり向上の必須条件。半導体製造工程で使用されるパターンをガラス等に形成し原版とす...


株式会社テクノビジョン

洗浄装置 フォトマスク洗浄装置 TWC-302

40人以上が見ています

最新の閲覧: 2時間前

■製品概要 フォトマスクのクリーン化は、製品歩留まり向上の必須条件。半導体製造工程で使用されるパターンをガラス等に形成し原版とす...


株式会社テクノビジョン

洗浄装置 全自動マスク洗浄装置 TWC-200A

40人以上が見ています

■製品概要 全自動マスク洗浄装置「TWC-200A」は、マスクに付着した1μm以上のパーティクルとレジスト残渣を一挙に完全除去する、最大7イ...


株式会社テクノビジョン

洗浄装置 全自動マスク洗浄装置 TWC-304A

30人以上が見ています

■製品概要 全自動マスク洗浄装置「TWC-304A」は、マスクに付着した1μm以上のパーティクルとレジスト残渣を一挙に完全除去する、最大14イ...




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