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ハイソルの半導体洗浄装置3製品中の注目ランキング
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ハイソル株式会社
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研究開発用に最適な卓上型の洗浄装置です。CMPといった研磨後のウエハー洗浄など、手洗いの代替としてご使用頂けます。 ■特徴 ・スクラブと2流体 (ミスト) ...
ハイソル株式会社
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100.0% 返答率
75.6時間 平均返答時間
■ 強固なレジスト除去やバリ除去に最適 超音波搭載リフトオフ・有機剥離装置 高品質基板が得られ、ランニングコスト低減を達成。デバイス状態に最適なツール...
ハイソル株式会社
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75.6時間 平均返答時間
■ 半導体の品質にこだわるなら、洗浄にもこだわる 1つのチャンバー内で薬液処理からリンス乾燥までのフルプロセスの実現。薬液の温調循環再生利用も可能であ...