タツモの半導体洗浄装置
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7 点の製品がみつかりました
タツモ株式会社
半導体製造装置 貼合・剥離装置 TWH-SR-CCシリーズ 支持体機械剥離洗浄一貫装置
20人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
熱硬化型/可塑型材料で貼合されたデバイスの支持体を剥離する装置です。機械剥離後、残渣洗浄まで自動で行います。テープフレームでハンドリングするため、デ...
タツモ株式会社
半導体製造装置 貼合・剥離装置 TWSシリーズ 塗布貼合装置
30人以上が見ています
最新の閲覧: 1時間前
高度な3次元実装、デバイス薄化の脆弱性対策等を目的としたウェーハの極薄化を支援し、半導体パッケージングの更なる小型化、省 エネを進めるために開発/設計...
タツモ株式会社
リン酸プロセス装置 リン酸再生装置 PSYRION
20人以上が見ています
最新の閲覧: 15時間前
窒化膜エッチングに用いられる熱リン酸は、プロセス処理により生成される珪素の濃度が上昇するため、定常的に新液への交換が必要になります。この珪素を弊社...
タツモ株式会社
リン酸プロセス装置 珪素濃度調整装置
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熱リン酸プロセスでは、処理槽内の薬液交換を行った直後には珪素濃度が低過ぎるため、ダミー処理を行う必要があり、生産性が低下してしまうという問題が発生...
タツモ株式会社
半導体製造装置 洗浄装置 枚葉式エッチング・ 洗浄システム CENOTE ®
20人以上が見ています
最新の閲覧: 17時間前
枚葉式洗浄システムCENOTE ®は、マルチカップ方式を採用した多機能枚葉式洗浄装置です。クリーンな液体をウェハ表面に連続供給すると同時に、薬液の種類、混...
タツモ株式会社
半導体製造装置 洗浄装置 リフトオフシステム VAP200TM/VAP300TM
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最新の閲覧: 5時間前
バッチ浸漬式洗浄モジュールと枚葉式洗浄モジュールを複合させたユニークな装置構成と なっており、フォトレジストやフィルムの剥離処理に適した洗浄装置です...
タツモ株式会社
半導体製造装置 洗浄装置 バッチ式浸漬洗浄・エッチングシステム TIGRISR
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バッチ式洗浄装置TIGRIS®200及びTIGRIS®300は、200mm/300mm対応型の高機能浸漬洗浄エッチングシステムで、業界標準仕様に所有技術を付加しました。各種モニタ...
