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6 点の製品
ヒューグルエレクトロニクス株式会社
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FOUPやFOSBの洗浄により半導体製造の高生産性を維持・向上させる概念が必要不可欠な時代です。IF-12は、1台で各種FOUP/FOSBの洗浄/乾燥処理が可能です。ヒュ...
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300mmウェハ用FOUPの自動洗浄装置としては、世界トップクラスの実績と信頼を得てきたUPC-12100をモデルチェンジ。現代の半導体製造には不可欠な高品質・高ス...
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8インチ用SMIFPODの精密洗浄・乾燥を目的として開発された前面タッチパネル方式のマニュアル洗浄機です。IA-8は、容器洗浄装置メーカーならではの高度な知識...
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本装置はCRD-4500の後継機として開発され、最大8"ウェハキャリア及びBOXまで対応可能な自動洗浄システムです。洗浄対象は専用トレイにセットされ、各処理チャ...
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レチクル専用容器であるRSP200,及びRSP150のフルオート洗浄システムです。高い洗浄性能を搭載した本装置はナノレベルのパーティクル除去を実現しております。...
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最新の露光技術であるEUV露光に用いられるEUVPODのための全自動洗浄装置 (特許取得済) です。InnerPOD、OuterPODの分解/再組立はもちろん、各PODは個別の専用...
ヒューグルエレクトロニクスの半導体洗浄装置6製品中の注目ランキング
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