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日本エンギスの研磨剤

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2 点の製品

日本エンギス株式会社

CMPスラリー

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CMP (Chemical Mechanical Polishingの略) スラリーは、化学的にワーク表面をエッチングさせ機械的な作用で除去し研磨を行います。素材...


日本エンギス株式会社

ポリッシングコンパウンド

150人以上が見ています

最新の閲覧: 8時間前

ポリッシング用主要砥粒であるアルミナ、シリカそしてセリウムをコロイダル状にし濃縮させたポリッシングコンパウンドです。 仕様 ■コ...


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