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片桐エンジニアリングのエッチング装置

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株式会社片桐エンジニアリング

プラズマ生成とバイアス機能を備えた2周波エッチング装置 CCP型プラズマエッチング装置

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■概要 ・プロセスガスからラジカルを選択的に生成 ・低電子温度、高密度プラズマが得られる60MHzパワーを上部電極に印加 ⇒イオンエネル...




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