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使用用途

#ウェーハ加工

エッチング方式

ウェットエッチング型

対象材料

化合物半導体対応型

ウェハサイズ mm

50 - 100

100 - 150

150 - 200

プラズマソース

プラズマ

三明のエッチング装置

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1 点の製品

株式会社三明

PECプロセス装置 PEC-6

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5.0 会社レビュー

100.0% 返答率

85.5時間 返答時間

GaNウェハ低ダメージエッチング装置 ■光源 波長 UVA UVC選択可能 ■加熱機能 エッチング溶液加熱により高速な深堀エッチング可能 ■自...




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