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10 点の製品
株式会社マイクロフェーズ
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エタノールはカーボンナノチューブの生成にとって非常に都合のいい原料の一つです。 SWCNTや結晶性の高いCNTが生成されやすい特徴があり...
株式会社マイクロフェーズ
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MPCNT-Basicバージョンを拡張し、フィラメント加熱機構やマルチガス導入機構など、 優れた機能を追加した小型CNT合成装置です。 エタノ...
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CNT合成,カーボン成膜,ナノセラミック成膜,窒化,カルコゲナイド成膜等に ■目的 CNTを合成したり、粉体試料にカーボンを成膜したり、各...
株式会社マイクロフェーズ
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炭化水素ガス (CH4やC2H2) を用いたCVD法で触媒基板 (Ni、Cuなど) にグラフェン膜を成長するには、 基板の急冷が重要要素の一つと言われ...
株式会社マイクロフェーズ
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レーザー描画によるパターン成膜が可能 ■概要 ・市販のファイバーレーザー加工機の試料室に、反応性ガス (炭化水素ガスやアンモニアガ...
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ガスのイオン化や前駆体の分解を促進 ■概要 ・横型管状炉熱CVD装置の上流側に、高周波誘導プラズマを発生させることにより、入力ガスあ...
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粉体表面へのカーボンコート／各種熱処理などに ■目的 Siや黒鉛負極粉末試料の表面にカーボン膜をCVDコートするための回転型管状炉CVD...
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連続処理による生産量の大幅向上 ■目的 当社が考案した量産用連続CVD処理方式です。十分長い反応管に処理する試料を縦列に並べて置き、...
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酸素ガスを供給しながらZn原料を加熱して蒸発させると、Zn蒸気と酸素ガスと反応し、ZnOが生成されます。 六方晶のZnOは、そのC軸の成長...
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各種金属 (Au, Ag, Cu, Al, Ni, Co) の原料を不活性ガス中で蒸発させると、 金属蒸気が周囲の不活性ガス分子との衝突を繰り返すことによ...
マイクロフェーズのCVD装置10製品中の注目ランキング
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