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株式会社マイクロフェーズ
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CNT合成,カーボン成膜,ナノセラミック成膜,窒化,カルコゲナイド成膜等に ■目的 CNTを合成したり、粉体試料にカーボンを成膜したり、各種CVD成膜するための汎...
株式会社マイクロフェーズ
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レーザー描画によるパターン成膜が可能 ■概要 ・市販のファイバーレーザー加工機の試料室に、反応性ガス (炭化水素ガスやアンモニアガスなど) の導入・排出...
株式会社マイクロフェーズ
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ガスのイオン化や前駆体の分解を促進 ■概要 ・横型管状炉熱CVD装置の上流側に、高周波誘導プラズマを発生させることにより、入力ガスあるいは前駆体のイオン...
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粉体表面へのカーボンコート/各種熱処理などに ■目的 Siや黒鉛負極粉末試料の表面にカーボン膜をCVDコートするための回転型管状炉CVD装置です。 ■特徴 ・...
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連続処理による生産量の大幅向上 ■目的 当社が考案した量産用連続CVD処理方式です。十分長い反応管に処理する試料を縦列に並べて置き、加熱炉を左から右への...
マイクロフェーズのCVD装置5製品中の注目ランキング
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