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株式会社スパッタリングコンポーネンツジャパン
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■特徴 ・パワーレベルに比例したイオンエネルギーの上昇が無い為、基板ダメージが少ない ・適用真空範囲が、1ｘ10-4から1ｘ10-1 mbarと広い為、スパッタ装置...
