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3 点の製品
株式会社日本シード研究所
最新の閲覧: 1時間前
■概要 ・容量結合型プラズマ方式のCVD装置です。 ・加熱機構を備えており、任意の温度に基板を加熱して成膜することが可能です。 ・直感...
株式会社日本シード研究所
最新の閲覧: 1時間前
■概要 ・コールドウォール式の熱CVD装置です。最高800℃の加熱制御が行えます。 ・成膜基板およびその近傍を加熱する構造の為、原料を効...
株式会社日本シード研究所
最新の閲覧: 1時間前
■概要 ・ホットウォール式の熱CVD装置です。最高900℃の加熱制御が行えます。 ・石英ガラス等の管状炉になっています。 ・化合物半導体の...
日本シード研究所のCVD装置3製品中の注目ランキング
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