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日本シード研究所のCVD装置

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3 点の製品

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株式会社日本シード研究所

CVD装置 プラズマCVD装置

最新の閲覧: 1時間前

■概要 ・容量結合型プラズマ方式のCVD装置です。 ・加熱機構を備えており、任意の温度に基板を加熱して成膜することが可能です。 ・直感...


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株式会社日本シード研究所

CVD装置 金属熱CVD装置

最新の閲覧: 1時間前

■概要 ・コールドウォール式の熱CVD装置です。最高800℃の加熱制御が行えます。 ・成膜基板およびその近傍を加熱する構造の為、原料を効...


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株式会社日本シード研究所

CVD装置 熱CVD装置

最新の閲覧: 1時間前

■概要 ・ホットウォール式の熱CVD装置です。最高900℃の加熱制御が行えます。 ・石英ガラス等の管状炉になっています。 ・化合物半導体の...


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