渡辺商行のCVD装置
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6 点の製品がみつかりました
株式会社渡辺商行
半導体製造装置 高性能枚葉式常圧CVD (APCVD) 装置 (A200V)
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少量・多品種向け NSG (SiO2) /PSG/BPSG膜成膜用 枚葉式常圧CVD (APCVD) 装置 (8インチSiCウェハ対応) A200Vは、層間絶縁膜・パッシベーション膜 (保護膜) ...
株式会社渡辺商行
半導体製造装置 高生産性連続式常圧CVD (APCVD) 装置 (AMAX800V)
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量産向け NSG (SiO2) /PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続式常圧CVD (APCVD) 装置 (8インチウェハまで対応) 「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーショ...
株式会社渡辺商行
半導体製造装置 高生産性連続式常圧CVD (APCVD) 装置 (AMAX1200)
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量産向け NSG (SiO2) /PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続式常圧CVD (APCVD) 装置 (12インチウェハ対応) 「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜...
株式会社渡辺商行
半導体製造装置 小規模生産・開発用常圧CVD (APCVD) 装置 (D501)
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試作・開発・小ロット生産向け NSG (SiO2) /BSG/PSG/BPSG膜成膜用 バッチ式 (複数枚同時処理) APCVD装置 D501は、少量生産/テストや不定形基板へのシリコン...
株式会社渡辺商行
半導体製造装置 太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S)
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結晶Si太陽電池セル量産用 NSG (SiO2) /PSG/BSG膜成膜用 高生産性 連続式常圧CVD (APCVD) 装置 AMAX1000Sは、「AMAX」シリーズの実績をもとに、太陽電池 (セ...
株式会社渡辺商行
半導体製造装置 低温成膜 フレキシブル基板対応 ガラス基板成膜装置
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FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板成膜装置です。 ■基本情報 成膜有効幅760mmのガスヘッド2基を搭載し、吸着式加熱ステージ...
