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テルモセラ・ジャパンの自動合成装置

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テルモセラ・ジャパン株式会社

nanoCVD グラフェン/CNT 合成装置

20人以上が見ています

■特徴 ・わずか『30分』でグラフェン/CNTを生成 ・コールドウオール式高速・高精度プロセスコントロール ・今日右側加熱ステージ:RT→Max1,100℃/約3分 ・高精...


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テルモセラ・ジャパン株式会社

ウエハースケールグラフェン合成装置 nanoCVD-WGP

20人以上が見ています

■概要 欧州のアカデミックパートナー (Manchester, Warwick,etc..) の協力の下、実績ある卓上型 nanoCVD-8G (試 料サイズ 20mm) に加え、更にウエハースケー...


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