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13 点の製品
株式会社日本シード研究所
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■概要 ・超伝導薄膜、金属薄膜、誘電体薄膜を自由な組み合わせで連続成膜することができます。 ・スパッタ成膜、抵抗加熱蒸着などの多用...
株式会社日本シード研究所
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■概要 ・超伝導トンネル接合に適合するニオブ、アルミまたこれらの化合物膜を連続成膜することができます。 ・スパッタ成膜に加え、イオ...
株式会社日本シード研究所
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■概要 ・超伝導薄膜、金属薄膜、誘電体薄膜を自由な組み合わせで連続成膜することができます。 ・スパッタ成膜、抵抗加熱蒸着などの多用...
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■概要 ・超伝導転移端センサ― (TES) に適合するチタン、金の積層膜を作製することができます。 ・蒸着方式となっており、電子銃、抵抗加...
株式会社日本シード研究所
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■概要 ・抵抗加熱式の蒸着装置となっており、金属膜、有機膜を作製することができます。 ・直感的に操作が行える手動装置の為、簡易的な...
株式会社日本シード研究所
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■概要 ・抵抗加熱式の蒸着装置となっており、高真空領域で単結晶膜を作製することができます。 ・基板上に平滑な金の (111) 面を形成す...
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■概要 ・超伝導薄膜、金属薄膜、誘電体薄膜を自由な組み合わせで連続成膜することができます。 ・スパッタ成膜法を活かした高品質・高機...
株式会社日本シード研究所
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■概要 ・斜入射レイアウトのカソードを備えたスパッタ成膜装置です。 ・最大3式のカソードを構成することができ、試料交換室、トランス...
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■概要 ・プレーナーカソードを備えた縦型スパッタ成膜装置です。 ・長尺物や立体物、処理数量の多い試料に対して均一性の高い成膜が行え...
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■概要 ・超伝導トンネル接合に適合するニオブ、アルミまたこれらの化合物膜を連続成膜することができます。 ・トランスファーロッドによ...
株式会社日本シード研究所
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■概要 ・容量結合型プラズマ方式のCVD装置です。 ・加熱機構を備えており、任意の温度に基板を加熱して成膜することが可能です。 ・直感...
株式会社日本シード研究所
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■概要 ・コールドウォール式の熱CVD装置です。最高800℃の加熱制御が行えます。 ・成膜基板およびその近傍を加熱する構造の為、原料を効...
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最新の閲覧: 1日前
■概要 ・ホットウォール式の熱CVD装置です。最高900℃の加熱制御が行えます。 ・石英ガラス等の管状炉になっています。 ・化合物半導体の...
日本シード研究所の成膜装置13製品中の注目ランキング
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