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日本電子工業のプラズマ処理装置

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4 点の製品

日本電子工業株式会社

イオン窒化 (プラズマ窒化) 装置

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プラズマ (イオン) 窒化法は、1932年ドイツにおいてB.Berghausにより発明され、1967年頃よりドイツ及びスイスで企業化されはじめました...


日本電子工業株式会社

ラジカル窒化装置

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ラジカル窒化装置は、炉体 (耐真空・耐熱容器) 、電気ヒーター、真空排気装置、ガス供給装置、プラズマおよびヒーター電源、操作制御装...


日本電子工業株式会社

プラズマ浸炭装置

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プラズマ浸炭装置は、熱エネルギーに加え、直流グロー放電によるプラズマの電気化学作用を利用して、金属材料表面に炭化物を形成させ、...


日本電子工業株式会社

NEO Cコーティング (プラズマCVD) 装置

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最新の閲覧: 1日前

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低温プラズマの熱処理への応用により開発されたプラズマCVD法は、PVD法・CVD法両技術の特長を兼ね備え、すでに半導体産業では重要な成膜...


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