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項目別

厚さ um

600 - 700 700 - 800

抵抗率 Ω・cm

0 - 1 1 - 10 10 - 100

結晶方位 度

100 - 101

導電型

P

パーティクルサイズ μm

0 - 1 1 - 10 10 - 100

マイクロセミコンダクターリサーチのシリコンウェハ

17 点の製品がみつかりました

17 点の製品

株式会社マイクロセミコンダクターリサーチ

3D NANDフラッシュメモリー用のテストパターンウェーハ

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■概要 半導体分野の先端技術である3D NAND Flashメモリーのテストパターンウェーハを開発しております。300mmシリコンウェーハ上にSiO2...


株式会社マイクロセミコンダクターリサーチ

ベタ膜ウェーハ

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300mmベタ膜ウェーハリスト ※他にも品番がございます。

10種類の品番


株式会社マイクロセミコンダクターリサーチ

MEMSに特化したSOIウェーハ

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■概要 MSRの提供するSOIウェーハはMEMSデバイス向けに特化した各種構造体のSOIウェーハを提供いたします。貼り合わせ・研削研磨法による...


株式会社マイクロセミコンダクターリサーチ

シリコンウェーハ 200mmプライムウェーハ

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■概要 200mmシリコンウェーハは大手シリコンウェーハ工場の製造ラインに弊社スタンダード仕様のウェーハを組み込みプライムウェーハの提...

2種類の品番


株式会社マイクロセミコンダクターリサーチ

独自ルートによるMSR300mmシリコンウェーハ

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■概要 MSRの独自ルートで調達する高品質300mmシリコンウェーハを提供いたします。ウェーハは米国大手シリコンウェーハ工場で製造され一...


株式会社マイクロセミコンダクターリサーチ

光通信用SOIウェーハ

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■概要 光通信用光導波路をアプリケーションとした薄膜SOIウェーハ製造を承ります。埋込酸化膜は3〜5μm、光導波路用薄膜活性層は100〜500...


株式会社マイクロセミコンダクターリサーチ

活性層1μmSOIウェーハ

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■概要 活性層厚さ1μmを研削・研磨法にて仕上げます。機械加工による1μm近辺の活性層仕上げは非常に難易度が高く歩留まりも低いのですが...


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