PEMモニター EMICON SA
株式会社スパッタリングコンポーネンツジャパン

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この製品について

■特徴・SCI製ロータリーカソードで多数の実績
・成膜レートを最大3倍に向上させる事も可能 (例：SiO2のリアクティブ成膜) 
・200nmから1,100nmまでの波長を一つのセンサーで解析出来るため、ターゲットの種類、プロセスの種類毎にセンサーやフィルターを代える必要がない。
・一台で8個のスペクトロメーターを搭載できる為、8か所のプラズマ状態を同時に測定可能
・一台で8台のマスフローコントローラーを制御したクローズドループを設定可能
・プラズマエミッションのモニターだけでなく、電源のインピーダンスをモニターしながらのコントロールも可能
・スペクトル分析法を採用している為、常に高精度でArとリアクティブガスの比率を監視しており、品質の安定化を図れる。
・スペクトル分析法を採用している為、わずかな光の異常により、真空のリークや、水のリークを検知可能。
・スペクトル分析法を採用している為、ターゲットからバッキングチューブが露出した場合の光のわずかな異常を検知可能となり、ターゲットを使用効率の限界まで利用できる。
・Profibus/Profinetのインターフェースを備えている為、装置との統合化が容易
・評価用デモ機のお貸し出し応相談

■摘要スパッタでのリアクティブプロセスの成膜速度の向上

■対象膜・SiO2,TiO2,Al2O3等の酸化膜
・SiN等の窒化膜
・その他スパッタリングのリアクティブプロセス