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ターゲット 高純度 円筒 Cu (銅) スパッタリングターゲット-高純度 円筒 Cu (銅) モノリシック スパッタリングターゲット
ターゲット 高純度 円筒 Cu (銅) スパッタリングターゲット-株式会社スパッタリングコンポーネンツジャパン

ターゲット 高純度 円筒 Cu (銅) スパッタリングターゲット
株式会社スパッタリングコンポーネンツジャパン

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この製品について

■特徴

・直径163mm (註1) までの円筒型Cu (銅) ターゲットをモノリシック (押出成形) で製造します。153mm直径 (註2) のモノリシックCuに比べ、約1.55倍の体積のCu (銅) を連続放電可能となります。 ・純度99.95％を超える高純度Cu (銅) をご提供可能です。 ・日本の大手ターゲットメーカーにOEMで提供しております。 ・中国製である為、米国、ヨーロッパ、日本製Cuに比べ、優位性のある価格でご提供可能です。

■註1

ターゲットエリア厚み換算15mmとなります。 (BT径133mm時)

■註2

ターゲットエリア厚み換算10mmとなります。 (BT径133mm時)

■概要

Fuzhou Yinrich Metallurgical Materials Co., Ltd は、2001年に、中国、福建省、福州にて設立されたスパッタリングターゲットの製造メーカーです。メタル スパッタリングターゲットから、ナノグレード粉末で成形したセラミック スパッタリングターゲットまで幅広くご提供しております。また、高い技術に裏付けされたボンディングも同工場で行います。円筒、平板、円板いかなる形状でもご提供可能です。 主な生産設備

■サーマル溶射機

10基

■コールドスプレー機

2基

■チョクラルスキー法 (CZ法) による単結晶もしくは多結晶シリコンの引き上げ炉

20基

■ボンディング機

8基

■CNC加工機

15基

  • シリーズ

    ターゲット 高純度 円筒 Cu (銅) スパッタリングターゲット

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ターゲット 高純度 円筒 Cu (銅) スパッタリングターゲット 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜)
ターゲット 高純度 円筒 Cu (銅) スパッタリングターゲット-品番-高純度 円筒 Cu (銅) モノリシック スパッタリングターゲット

高純度 円筒 Cu (銅) モノリシック スパッタリングターゲット

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  • 本社所在地: 千葉県
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