ターゲット高純度円筒 Si (シリコン) 単結晶スパッタリングターゲット-高純度円筒 Si (シリコン) 単結晶スパッタリングターゲット

ターゲット高純度円筒 Si (シリコン) 単結晶スパッタリングターゲット
株式会社スパッタリングコンポーネンツジャパン

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この製品について

■特徴・円筒型単結晶Si (シリコン) スパッタリングターゲットをチョクラルスキー法 (CZ法) で製造します。
・純度99.99％を超える高純度Si (シリコン) をご提供可能です。
・日本の大手ターゲットメーカーにOEMで提供しております。
・中国製である為、米国、ヨーロッパ、日本製Siスパッタリングターゲットに比べ、優位性のある価格でご提供可能です。
・多結晶シリコンスパッタリングターゲットもご提供可能です。
・溶射によるSiAlスパッタリングターゲットやBoron doped Siスパッタリングターゲットもご提供可能です。

■概要Fuzhou Yinrich Metallurgical Materials Co., Ltd は、2001年に、中国、福建省、福州にて設立されたスパッタリングターゲットの製造メーカーです。メタル スパッタリングターゲットから、ナノグレード粉末で成形したセラミック スパッタリングターゲットまで幅広くご提供しております。また、高い技術に裏付けされたボンディングも同工場で行います。円筒、平板、円板いかなる形状でもご提供可能です。

主な生産設備

■サーマル溶射機10基

■コールドスプレー機2基

■チョクラルスキー法 (CZ法) による単結晶もしくは多結晶シリコンの引き上げ炉20基

■ボンディング機8基

■CNC加工機15基