真空装置内の中性ガス流れ解析大気圏再突入解析 3次元希薄気体解析ソフトウェア DSMC-Neutrals-DSMC-Neutrals

真空装置内の中性ガス流れ解析大気圏再突入解析 3次元希薄気体解析ソフトウェア DSMC-Neutrals
株式会社ウェーブフロント

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この製品について

DSMC-Neutrals はモンテカルロ直接法 ( DSMC - Direct Simulation Monte Carlo ) を用いた3次元希薄気体解析ソフトウェアです。 一般的なCAE解析ソフトと同様に非構造メッシュを用いることにより、複雑な形状のシミュレーションにも対応しています。 本ソフトウェアの得意分野は、圧力が低いために流体モデルが適用できない希薄気体 (希薄流体) のシミュレーションです。

 モンテカルロ法をベースにしたDSMC法は、計算領域内におけるシミュレーション粒子の挙動を実現象に近いモデルで計算するために、 浮力、重力、熱泳動、激しいガス流れ内のナノ粒子挙動などの複雑なガス流れを特別な物理モデルを使用することなく解くことができます。 また、衝突を考慮しない自由分子流領域の計算も可能です。

■特長流体モデルと同様に、アレニウス形式の反応式を用いた化学反応の計算も可能です。 粒子の蒸発・脱離や吸着を扱うことができるため、真空蒸着や化学蒸着等への適用ができます。 

また、構造物が移動するターボ分子ポンプ (TMP - Turbo Molecular Pump) による排気シミュレーションや、 ハードディスク上のスライダの挙動計算や狭い流路計算などにも適用可能です。

■主な実績化学蒸着 ( CVD - Chemical Vapor Deposition ) 、真空蒸着、 有機EL ( OLED - Organic Light Emitting Diode ) 、 分子線エピタキシー ( MBE - Molecular Beam Epitaxy ) などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーションがあります。 また、コンダクタンスや排気時間などを調べる真空排気シミュレーションなどの実績もあります。 

その他の応用分野としては、最近注目されている CIGS ( CIS ) 型太陽電池における成膜 ( CIGS膜 ) シミュレーションや、 アークイオンプレーティング (AIP Arc Ion Plating) のようなプラズマを用いる装置のガス流れの解析等があります。 高圧力の計算としては、ハードディスクのスライダの挙動計算に実績があります。