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熱処理・加熱装置 赤外線イメージ炉 実験用途 卓上型ランプ加熱装置 MILA-5000シリーズ-MILA-5000-P-N (近赤外型)
熱処理・加熱装置 赤外線イメージ炉 実験用途 卓上型ランプ加熱装置 MILA-5000シリーズ-アルバック販売株式会社

熱処理・加熱装置 赤外線イメージ炉 実験用途 卓上型ランプ加熱装置 MILA-5000シリーズ
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■概要

小サンプルの研究開発に最適。高速加熱・高速冷却、クリーン加熱が行えます。 自在な雰囲気下で加熱する事が可能で温度コントローラと雰囲気可変チャンバが一体化した小型で低価格な赤外線ランプ加熱装置です。加熱操作をUSB接続によりパソコン上で行え手軽にデータ管理出来ます。

■用途

・強誘電体薄膜の結晶アニール ・イオン注入後の拡散アニール、酸化膜生成アニール ・Si、化合物ウェハのシンタリング、アロイング処理 ・ガラス基板の灼熱アニール ・熱サイクル、熱衝撃、熱疲労試験 ・昇温脱離試験、触媒効果試験

■特長

・50℃/sの高速加熱 ・真空中、ガス中、ガスフロー中、大気中と任意の雰囲気選択 ・精密な温度コントロール ・卓上型でコンパクトな設計

  • シリーズ

    熱処理・加熱装置 赤外線イメージ炉 実験用途 卓上型ランプ加熱装置 MILA-5000シリーズ

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熱処理・加熱装置 赤外線イメージ炉 実験用途 卓上型ランプ加熱装置 MILA-5000シリーズ 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 温度範囲 ランプ 試料寸法 測定雰囲気 アプリケーション
熱処理・加熱装置 赤外線イメージ炉 実験用途 卓上型ランプ加熱装置 MILA-5000シリーズ-品番-MILA-5000-P-N (近赤外型)

MILA-5000-P-N (近赤外型)

要見積もり

室温~1,200℃

近赤外ランプ

角20mm×厚2mm

大気中、真空中、ガスフロー中

真空排気装置 (ロータリーポンプセット)
冷却水循環ユニット

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最高温度 ℃

100 - 700 700 - 1,100 1,100 - 1,200 1,200 - 1,300 1,300 - 1,400 1,400 - 1,500 1,500 - 1,600 1,600 - 1,700 1,700 - 1,800

炉内容積 L

0 - 5 5 - 10 10 - 20 20 - 30 30 - 60

温度分布

0 - 3 3 - 6 6 - 10

昇温時間 分

10 - 20 20 - 30 30 - 40 40 - 50 50 - 70

電源電圧

AC100V AC110V AC200V AC220V AC240V AC380V AC400V

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アルバック販売株式会社

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会社概要

アルバック販売株式会社は、1970年に設立された、真空機器関連の専門商社です。 株式会社アルバック（神奈川県）のグループ会社の1社であり、アルバック社の真空機器の国内販売を担います。販売先は、大手メーカーや官公庁・大学...

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  • 本社所在地: 東京都

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