熱処理・加熱装置 赤外線イメージ炉 実験用途 卓上型ランプ加熱装置 MILA-5050
アルバック販売株式会社
この製品について
■概要
本装置は、試料寸法50mm角までの熱処理を可能とした卓上型ランプ加熱装置です。 試料寸法20mm角までの加熱装置として、卓上型ランプ加熱装置MILA-5000シリーズを発売以来、多くのお客様にご愛用いただいておりますが、「もう少し大きい試料の熱処理がしたい」というお客様のご要望にお応えし、加熱炉、チャンバ、温度制御器を一体にしたコンパクトなボディはそのままに、50mm角までの熱処理を可能といたしました。■用途
1. Si ウエハ、化合物ウエハの高速加熱 2. 光CVDの基板加熱などのエレクトロニクス材料の高速加熱 3. ガラス基板、セラミックス、複合材料などの熱処理 4. 熱サイクル試験 5. 金属材料の焼鈍 6. コーティング膜の耐熱評価 7. 有機材料、樹脂類の加熱、乾燥■特長
1. 最大W 50mm × L 50mmサイズまでの試料の熱処理が可能 2. 最高使用温度は1,200℃ 3. 加熱炉、チャンバ、温度制御器を一体化した卓上型 4. Cold Wall構造による急速加熱/冷却とクリーン加熱が可能 5. 温度レシピはUSB接続したパソコンで簡単入力 6. 加熱中の温度データをパソコン画面に表示可能 (テキストファイルとして保存も可能)-
シリーズ
熱処理・加熱装置 赤外線イメージ炉 実験用途 卓上型ランプ加熱装置 MILA-5050
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取扱企業
アルバック販売株式会社
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カテゴリ
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熱処理・加熱装置 赤外線イメージ炉 実験用途 卓上型ランプ加熱装置 MILA-5050 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 温度範囲 | 試料寸法 | 加熱雰囲気 | 加熱速度 | 温度分布 |
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MILA-5050 |
要見積もり | 室温~1,200℃ | 角50またはΦ50 × t5 (mm) | 真空中、各種ガスフロー中 | 50℃/s | 1%以内 (1,000℃時) |
のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。
