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熱処理・加熱装置 赤外線イメージ炉 実験用途 赤外線ランプ加熱装置 RTP-6-RTP-6
熱処理・加熱装置 赤外線イメージ炉 実験用途 赤外線ランプ加熱装置 RTP-6-アルバック販売株式会社

熱処理・加熱装置 赤外線イメージ炉 実験用途 赤外線ランプ加熱装置 RTP-6
アルバック販売株式会社

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■概要

最大6インチまでのランプアニール装置。個別半導体プロセスのシリサイド形成や化合物半導体のプロセスアニールが可能です。

■用途

Siウェハの急速熱処理が可能

■特長

コールドウォール構造の為、重金属汚染がありません。

  • シリーズ

    熱処理・加熱装置 赤外線イメージ炉 実験用途 赤外線ランプ加熱装置 RTP-6

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熱処理・加熱装置 赤外線イメージ炉 実験用途 赤外線ランプ加熱装置 RTP-6 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 温度範囲 試料寸法 測定雰囲気 アプリケーション
熱処理・加熱装置 赤外線イメージ炉 実験用途 赤外線ランプ加熱装置 RTP-6-品番-RTP-6

RTP-6

要見積もり

室温~1,000℃

4インチ~6インチウェハサイズ

ガス中、ガスフロー中、大気中

ターボ分子ポンプ/ロータリーポンプ排気セット
冷却水循環装置
パイロメータ制御
SiCカーボンサセプタ

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この商品の取り扱い会社情報

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会社概要

アルバック販売株式会社は、1970年に設立された、真空機器関連の専門商社です。 株式会社アルバック(神奈川県)のグループ会社の1社であり、アルバック社の真空機器の国内販売を担います。販売先は、大手メーカーや官公庁・大学...

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  • 本社所在地: 東京都
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