熱処理・加熱装置 赤外線イメージ炉 実験用途 超高温ランプアニール装置 HT-RTA59HD
アルバック販売株式会社
この製品について
■概要
SiCなど高価な試料やその他高融点材料の小片試料をスポット加熱による高い反射効率で、超高温領域1,800℃まで昇温可能な卓上型超高温ランプアニール装置です。■用途
・SiC (GaN) パワーデバイスプロセスの酸化膜形成、活性化アニールの研究・開発 ・その他半導体プロセスの研究・開発 ・ガラス基板、セラミックス、複合材料などの熱処理 ・セラミックス材料の熱衝撃試験 ・高融点金属材料の焼結など、各種熱処理試験 ・温度勾配炉として ・ガス分析用の加熱炉として■特長
・超高温1,800℃まで10秒の加熱が可能 ・楕円反射面にハイパワーランプを搭載したスポット集光炉 ・Cold Wall構造による急速加熱／冷却とクリーン加熱が可能 ・加熱炉と石英製チャンバを一体化した卓上型 ・温度レシピは、USB接続したパソコンで簡単入力 ・加熱中の温度データをパソコン画面に表示可能 (テキストファイルとして保存も可能)-
シリーズ
熱処理・加熱装置 赤外線イメージ炉 実験用途 超高温ランプアニール装置 HT-RTA59HD
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取扱企業
アルバック販売株式会社
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熱処理・加熱装置 赤外線イメージ炉 実験用途 超高温ランプアニール装置 HT-RTA59HD 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 温度範囲 | 試料サイズ | 温度センサ | 所要電源 |
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HT-RTA59HD |
要見積もり | 室温~1,800℃ (最高2,000℃) | 角15mm × 厚1mm | JIS B熱電対 (W-Reも対応可) | AC 200V 40A 8kW |
のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。
