熱流体解析ソフト PHOENICS CVD Package-PHOENICS CVD Package

熱流体解析ソフト PHOENICS CVD Package
CHAM-Japan

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この製品について

■熱流体解析ソフトPHOENICS CVD『CVD』は、「chemical vapor deposition」の略。直訳は化学蒸着反応。化学気相成長法といいます。化学気相成長法とは、半導体集積回路 (IC) を製造する工程のうち、化学反応を利用して基板をシリコンの薄膜でコーティングする手法のことです。
また、「CVD装置」は薄膜形成装置の一つで半導体の表面に10nm～1000nm程度の薄い膜を堆積する装置です。その「CVD製造装置」内の広範囲な振る舞いをシミュレーションできるのが、『PHOENICS CVD Package』です。

■熱流体解析ソフト PHOENICS CVD Package『PHOENICS CVD Package』は、当時のヨーロッパ共同体 (EC) の「ESPRITプロジェクト」において弊社の3次元汎用熱流体解析コード「PHOENICS」をベースに、Siemens (シーメンス：オランダ) 、Technical University of Delft (デルフト工科大学：オランダ) 、ASM International (ASMインターナショナル：オランダ) 、Fraunhofer Institute (フラウンホーファー研究機構：ドイツ) 等の協力の元で開発されました。

■主な特徴・CVD装置内の流れ、熱移動と化学反応計算
・プラズマCVDに対応 (Drift-diffusion model) 
・多成分の混合ガスに対応 (物性値は自動的に平均化) 
・熱幅射解析 (形態係数) 
・わかりやすいメニュー機能
・豊富な物性値データベース
・化学反応データベース (CHEMKIN) 

■基本機能　・メニュー形式による簡単なデータセットアップ
・固体表面の蒸着化学反応
・多成分混合ガスの拡散、熱拡散
・ドリフト拡散モデルによるプラズマシミュレーション

■輸送、熱力学、物性、化学反応等のパラメータデータファイルの追加機能『CHEMKIN』形式のため簡単追加

■Surface to Surface 熱輻射 (表面間輻射) ・輻射モデルには、ビュー・ファクター (形態係数) に基づく表面間輻射が含まれます。
・輻射の効果は、既存のエネルギー式の熱連成解法内に組み込まれます。