プラズマ発光リアルモニタ EMICON MCシリーズ
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この製品について

EMICONの使用用途
■トラブルシューティング指定した波長ピークの経時変化をモニタし、プロセス状態を把握出来ます。正常プロセス時の発光状態を記録しておけば、異常が起きた発光状態との比較により、短時間で異常原因が判ります。

■プロセス開発ガス流量、パワーを増やすと発光強度は増えます。又、複数のガスを同時に注入したら、パワーや流量の条件が同じでも、各々の単独のガス注入に比べ発光強度は変化します。そこで、条件が変わった場合の基準計として、発光強度モニタを使用出来ます。

■リアクティブスパッタ成膜制御・1.4nm高分解能分光器
・200-1,100nm広領域モニタ
・ノイズ成分除去波長での制御
・レシピ変更だけで、別の種類のターゲツトプロセスに簡単に、数秒で切り替えられます