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高純度 円筒 Cu (銅) スパッタリングターゲット-Cu (銅) スパッタリングターゲット
高純度 円筒 Cu (銅) スパッタリングターゲット-XQ Instruments

高純度 円筒 Cu (銅) スパッタリングターゲット
XQ Instruments



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この製品について

■特徴

・直径163mm (註1) までの円筒型Cu (銅) ターゲットをモノリシック (押出成形) で製造します。153mm直径 (註2) のモノリシックCuに比べ、約1.55倍の体積のCu (銅) を連続放電可能となります。 ・純度99.95%を超える高純度Cu (銅) をご提供可能です。 ・日本の大手ターゲットメーカーにOEMで提供しております。 ・中国製である為、米国、ヨーロッパ、日本製Cuに比べ、優位性のある価格でご提供可能です。 註1:ターゲットエリア厚み換算15mmとなります。 (BT径133mm時) 註2:ターゲットエリア厚み換算10mmとなります。 (BT径133mm時)

  • シリーズ

    高純度 円筒 Cu (銅) スパッタリングターゲット

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高純度 円筒 Cu (銅) スパッタリングターゲット 品番1件

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Cu (銅) スパッタリングターゲット

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会社概要

XQ Instrumentsは、半自動プロセス向けの革新的で特許取得済みの機器を開発し製造しています。 主にライフサイエンス/化学研究室、食品・飲料、産業、テスト、およびブティック製造アプリケーション向けの粉末ディ...

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  • 本社所在地: シンガポール
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