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非接触式超音波クリーナー (基板/両面用) -USXD-1
非接触式超音波クリーナー (基板/両面用) -ヒューグルエレクトロニクス株式会社

非接触式超音波クリーナー (基板/両面用)
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省スペース・省エネ型の超音波基板クリーナー (両面用) 。最適なエアーバランスで運用することにより極薄基板の両面クリーニングが可能です。コンパクト設計によるクリーニングヘッドのスリム化を実現し、エアー流量制御によりブロワユニットも省電力・軽量化も実現しました。 製品概要

■FPD市場での導入例

小型基板から第10世代液晶ガラスまで対応する非接触式両面ドライクリーナーです。 フラットパネルディスプレイ (液晶、有機EL) のアレイ・セル工程で付着したパーティクル等をインラインにて表裏同時にクリーニングが可能です。 コロ・コンベア搬送されるFPDやOLED、太陽光発電パネルの両面クリーニングに最適です。

■製品ターゲット

液晶パネル、有機EL、タッチパネル、バックライト、太陽電池、プリント基板、etc

■採用工程

成膜、スパッタ、レジスト塗布、露光、ドライエッジング、光配光剤塗布、ラビング、シール材塗布、偏光板貼付、ガラス貼付、封止、蒸着、etc 有効幅は100～3000mm超まで大小様々な基板に対応可能です。

■除塵性能

1.6μm以上の微粒子を100%除去可能です

■N2環境対応

液晶製造ラインで実績のあるドライ洗浄技術を窒素環境下でも実現しました。密閉チャンバー内の窒素環境下で有機蒸着されたガラス表面の異物を除去することが可能です。 チャンバー内の窒素環境を維持した状態でクリーナー処理を行うための、新たに設計されたブロワ/フィルターユニット、温度コントロールシステムをご提供致します。 (特許取得済)

  • シリーズ

    非接触式超音波クリーナー (基板/両面用)

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会社概要

ヒューグルエレクトロニクス株式会社は1971年に設立した、半導体関連製品のメーカーです。 容器洗浄装置、非接触に数ミクロンの異物を除去できる超音波ドライクリーナー、非接触で静電気の除電を行えるイオナイザーなどの半導体や...

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