ランプアニール装置 (高速熱処理装置) -ランプアニール装置 (高速熱処理装置)

ランプアニール装置 (高速熱処理装置)
株式会社ピクリング

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この製品について

■特徴・ウェハサイズに合わせて、3種類のシステムをラインナップしました。 (4インチ/6インチ/8インチ) 
・最高昇温速度200℃/秒、最高到達温度1,250℃のクローズドループ高速熱処理に対応。
・最先端の温度制御アルゴリズムにより、オーバーシュート、アンダーシュートのない熱処理が可能。
・優れたウェハ間温度プロファイル再現性。
・広域レンジパイロメーター (非接触高温温度計) による高精度温度計測 (オプション) 
・各種プロセスガス用に最大4つのMFC (マスフローメータ) を組み込み可能です。
・ガラス基板や、化合物半導体用に各種サセプタをご用意しております。
・高度なレシピ設定、キャリブレーション機能によりR&Dのみならず、生産用途にもご使用いただけます。