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ランプアニール装置 (高速熱処理装置) -ランプアニール装置 (高速熱処理装置)
ランプアニール装置 (高速熱処理装置) -株式会社ピクリング

ランプアニール装置 (高速熱処理装置)
株式会社ピクリング

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この製品について

■特徴

・ウェハサイズに合わせて、3種類のシステムをラインナップしました。 (4インチ/6インチ/8インチ) ・最高昇温速度200℃/秒、最高到達温度1,250℃のクローズドループ高速熱処理に対応。 ・最先端の温度制御アルゴリズムにより、オーバーシュート、アンダーシュートのない熱処理が可能。 ・優れたウェハ間温度プロファイル再現性。 ・広域レンジパイロメーター (非接触高温温度計) による高精度温度計測 (オプション) ・各種プロセスガス用に最大4つのMFC (マスフローメータ) を組み込み可能です。 ・ガラス基板や、化合物半導体用に各種サセプタをご用意しております。 ・高度なレシピ設定、キャリブレーション機能によりR&Dのみならず、生産用途にもご使用いただけます。

  • シリーズ

    ランプアニール装置 (高速熱処理装置)

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