ファインセラミックス Si3N4 窒化ケイ素プローブカード用薄板
ラックデザイン株式会社

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この製品について

■特徴・Probe Card用 基板
・レーザー加工に最適
・HIP処理を施し、反りを低減。ポア30μm以下。
・100角と150角を揃えております。厚みは、0.1〜0.4mmをご選択下さい。
・⾊；⿊ 平坦度；50μ

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ファインセラミックス Si3N4 窒化ケイ素プローブカード用薄板品番1件

商品画像	品番	価格 (税抜)
	プローブカード用薄板	要見積もり

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