Infinity FA system：Ion Beam Delayering装置-Infinity FA system

Infinity FA system：Ion Beam Delayering装置
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この製品について

■概要イオンエネルギーとプラズマ制御を中心に28件の特許と独自技術を持つ米国デントンバキューム社は、半導体やナノテク企業の技術ロードマップを維持するために、低ダメージ、コンタミフリー、超薄膜、均一膜のニーズを満たすことができるユニークな企業です。

Infinity FA systemは、半導体故障解析における材料層の層剥離や除去に対して、迅速な結果を提供する費用対効果の高いソリューションです。広い面積にわたって、優れた均一性と最小限のダメージを実現します。複数のイオンビームエッチング技術を使用することにより、単一層の異なる材料のエッチングレートを一致させることができ、化学組成に関係なく層全体を均一に除去することが可能です。 Denton社のパートナーシップに支えられたInfinity FAツールは、高品質のパフォーマンスと高いシステムアップタイムを実現します。

■特徴半導体故障解析・物理解析の為の広域イオンビームエッチング
半導体デバイスの微細化に伴い、欠陥の特定はプロセス改善と歩留まり向上のための重要な要素となっています。

イオンビームディレイヤイングとは、イオンビームエッチング技術を使用して基板から1層ずつ材料の除去、層剥離を行う事です。層剥離の主な目的は層の下に埋まっている欠陥の位置を露出させる事で、多層化された配線において欠陥観察を行うためには材料を除去する必要があります。従来からある平面研磨、ウェットエッチング、ドライエッチングでは構成材料の物理的性質の違いによりエッチング速度が異なるため、デバイスを均一にエッチングすることが難しい事や、露出面積がが小さい、露出部以外の表面損傷や高い人的リソース (手間がかかる) といった課題がありました。

Denton社のInfinity FAシステムでは、複数のイオンビームエッチング技術を使用することにより、単一層の異なる構成要素のエッチングレートを一致させることができ、化学組成に関係なく層全体を均一に除去することが可能です。