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ナノ構造光学 メタレンズ-メタレンズ
ナノ構造光学 メタレンズ-株式会社日本レーザー

ナノ構造光学 メタレンズ
株式会社日本レーザー

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この製品について

■概要

最小70nmピラー構造とφ200mmウェハ対応のフラット光学素子で、薄型・軽量ながら高い光学性能を備えています。可視光から近赤外までの波長に対応し、メタレンズならではの自由度の高い光制御が可能です。カメラモジュール、AR/VR、センシング、イメージング、照明光学など幅広い用途でご利用いただけます。 Moxtekのメタレンズ／メタサーフェス光学は、ナノ構造技術によって従来の厚く重いレンズをフラットでコンパクトな光学素子として実現する製品です。可視光から近赤外までの波長に対応し、設計・試作からウェハレベルの量産、評価、パッケージングまでを一貫して行っています。標準的な可視メタレンズプレートに加え、用途に応じたカスタム設計やナノ構造デバイスの量産にも対応します。

■フラット光学を実現する高性能メタレンズ技術

・ナノ構造によって光の位相を精密制御し、従来レンズを大幅に薄型・軽量化 ・光学性能を維持しながら、レンズをフラット化できる点が最大の特長

■可視〜近赤外まで対応した幅広い波長設計

・可視光から近赤外までの領域で動作するメタレンズ設計に対応 ・小型光学機器やイメージング用途に適した高い設計自由度

■ウェハレベルでの量産に対応した製造技術

・φ200mmウェハに対応したナノインプリント (NIL) 量産プロセスを採用 ・最小70nmクラスの高解像度パターン形成が可能で、メタ光学素子を高再現性で製造

■標準品とカスタム品の両ラインナップ

・可視メタレンズプレートを標準品として提供 ・用途に合わせたカスタム設計やナノ構造デバイスの製造にも対応

■カスタム対応

・任意波長 (可視・近赤外・赤外) でのメタレンズ設計 ・最小70nmクラスのメタアトム/ナノパターン形成 ・φ200 mmウェハ対応のナノインプリント量産プロセス ・焦点距離・レンズ径・NAを自由に設計可能 ・DOE/導波路/フォトニック結晶など他ナノ構造デバイスも製作可能 ・100%検査による光学性能評価・パッケージング対応

  • シリーズ

    ナノ構造光学 メタレンズ

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2025年3月27日にレビュー

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ナノ構造光学 メタレンズ 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 設計波長 対応波長帯 レンズ径 焦点距離 数値開口 (NA) 基板 ARコーティング 外形 保護コーティング アパーチャ 耐熱性
ナノ構造光学 メタレンズ-品番-メタレンズ

メタレンズ

要見積もり

532nm / 632nm

420–670nm (ARコート適用範囲)

1mm / 4mm

0.5–10mm (モデルにより異なる)

NA 0.196 / NA 0.707

Eagle XGガラス、0.7±0.07mm厚

可視光ブロードバンドAR (420–670nm) ※裏面側に適用

20×20mm プレート (メタレンズアレイ搭載)

Overcoat (TM) によるメタ面保護

吸収型または反射型アパーチャ (標準で適用)

200℃ / 1,000時間以上 (テスト条件による)

この商品の取り扱い会社情報

株式会社日本レーザー

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会社概要

株式会社日本レーザーは、レーザーおよび光関連製品を取り扱う、レーザー専門商社です。
1968年設立、1971年に日本電子株式会社の100％出資子会社となった後、2007年には日本初のMEBOで完全独立いたしました...

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  • 本社所在地: 東京都

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