5nmナノマシニングフォトマスクリペアシステム RAVE nm-VI-RAVE nm-VI

5nmナノマシニングフォトマスクリペアシステム RAVE nm-VI
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この製品について

■高精度ナノマシニングリペア装置・7nmノード以降最先端半導体デバイス向けフォトマスクを高精度に修正
・デジタルコントロールにより、さらに修正精度を向上
・NanoBit™プローブのコントロールをデジタル化することにより、Edge Placement≦2nm、Z制御≦1nmを実現しました。ハーフトーン、レベンソン、クオーツ (CPL) などの次世代向けフォトマスクも高精度に修正することが可能です
・最先端HAR NanoBit™を使用することで、微細パターンやハイアスペクトパターンの欠陥を高精度に修正します
・BitCleanオプション機能を追加することにより、修正を必要としないようなマスク上の異物を、ウェット洗浄をはじめとする異物除去または修正工程なしで簡易に除去することが可能です