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フォトレジスト剥離液 レジスト剥離促進剤 アンラスト® R500
株式会社三若純薬研究所

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この製品について

特長

■ポイント

・アルカリベースの剥離液に添加して剥離を容易に ・苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリに対応 ・電子工業向けの専用促進剤 苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリなどアルカリベースの剥離液に添加することにより、レジストの剥離が容易となります。

■キーワード

レジスト剥離促進剤, アンラスト® R500, 添加型剥離促進剤, ドライフィルム剥離, ポジレジスト剥離, アルカリベース, 苛性ソーダ, 苛性カリ, 有機アルカリ

  • シリーズ

    フォトレジスト剥離液 レジスト剥離促進剤 アンラスト® R500

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フォトレジスト剥離液 レジスト剥離促進剤 アンラスト® R500 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 処理条件 濃度 (%) 対象物 使用されている業界 用途 容量・荷姿

アンラスト® R500

要見積もり

数~10%

ドライフィルム、ポジレジスト

電子工業

レジスト剥離液に添加するタイプの剥離促進剤

20kg缶/200kgドラム

この商品の取り扱い会社情報

株式会社三若純薬研究所

会社概要

株式会社三若純薬研究所は、工業用精密化学薬品の受託製造及び各種化学薬品製造・販売メーカーです。 受託生産では、依頼に応じた精密化学薬品精製や配合のほか、配合剤の提案、共同開発なども行っています。その他、電子・化学工業で...

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