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フォトレジスト剥離液 アンラスト® No.2C
株式会社三若純薬研究所

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この製品について

特長

■ポイント

・珪酸塩ベースの高沸点溶剤混合品 ・アルミニウム基盤にも対応 ・常温から70℃までの広い温度範囲で使用可能 珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品。アルミニウム基盤にも使用可能です。

■キーワード

レジスト剥離液, アンラスト® No.2C, 水溶性レジスト剥離剤, ポジレジスト剥離, 珪酸塩ベース, 高沸点溶剤, アルミニウム基盤対応, 常温～70℃, 電子工業用途

  • シリーズ

    フォトレジスト剥離液 アンラスト® No.2C

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フォトレジスト剥離液 アンラスト® No.2C 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 処理条件 濃度 (%) 処理条件 温度 (℃) 処理条件 時間 対象物 使用されている業界 用途 容量・荷姿

アンラスト® No.2C

要見積もり

原液又は純水にて希釈

常温~70℃

20~90秒

ポジレジスト

電子工業

水溶性レジスト剥離剤

20kg缶/ドラム/ローリー

この商品の取り扱い会社情報

株式会社三若純薬研究所

会社概要

株式会社三若純薬研究所は、工業用精密化学薬品の受託製造及び各種化学薬品製造・販売メーカーです。 受託生産では、依頼に応じた精密化学薬品精製や配合のほか、配合剤の提案、共同開発なども行っています。その他、電子・化学工業で...

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