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フォトレジスト剥離液 アンラスト® R510
株式会社三若純薬研究所

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この製品について

特長

■ポイント

・PVA系フォトレジスト専用剥離剤 ・リードフレーム用に特化して開発 ・剥離後の皮膜が小さく、BOD/COD負荷が低い PVA系フォトレジストの剥離剤で、特にリードフレーム用として開発。剥離された皮膜は比較的小さく、また、BOD、COD負荷も他のものと比較して低くなっています。※毒物劇物取締法：毒物

■キーワード

レジスト剥離液, アンラスト® R510, ポジレジスト剥離, PVA系フォトレジスト, リードフレーム用, 高温処理, 電子工業用途, BOD負荷低減, COD負荷低減

  • シリーズ

    フォトレジスト剥離液 アンラスト® R510

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フォトレジスト剥離液 アンラスト® R510 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 処理条件 濃度 (%) 処理条件 温度 (℃) 処理条件 時間 対象物 使用されている業界 用途 容量・荷姿

アンラスト® R510

要見積もり

原液

90~110℃

20~90秒

ポジレジスト

電子工業

PVA系フォトレジストの剥離

20kg缶/1tコンテナ/ローリー

この商品の取り扱い会社情報

株式会社三若純薬研究所

会社概要

株式会社三若純薬研究所は、工業用精密化学薬品の受託製造及び各種化学薬品製造・販売メーカーです。 受託生産では、依頼に応じた精密化学薬品精製や配合のほか、配合剤の提案、共同開発なども行っています。その他、電子・化学工業で...

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