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フォトレジスト剥離液 アンラスト® M10
株式会社三若純薬研究所

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この製品について

特長

■ポイント

・剥離片が小さく基材への引っ掛かり防止 ・浸漬法とスプレー法に対応 ・短時間でのレジスト剥離可能 剥離片が小さくなるため、基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良が防止できます。処理方法として浸漬法、スプレー法にも対応した製品です。毒物劇物取締法：毒物

■キーワード

レジスト剥離液, アンラスト® M10, ドライフィルム剥離, ポジレジスト剥離, 常温～70℃, 電子工業用途, 浸漬法対応, スプレー法対応

  • シリーズ

    フォトレジスト剥離液 アンラスト® M10

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フォトレジスト剥離液 アンラスト® M10 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 処理条件 濃度 (%) 処理条件 温度 (℃) 処理条件 時間 対象物 使用されている業界 用途 容量・荷姿

アンラスト® M10

要見積もり

原液処理又は純水にて希釈使用

常温~70℃

20~90秒

ドライフィルム、ポジレジスト

電子工業

レジストの剥離

20kg缶/ドラム/1tコンテナ/ローリー

この商品の取り扱い会社情報

株式会社三若純薬研究所

会社概要

株式会社三若純薬研究所は、工業用精密化学薬品の受託製造及び各種化学薬品製造・販売メーカーです。 受託生産では、依頼に応じた精密化学薬品精製や配合のほか、配合剤の提案、共同開発なども行っています。その他、電子・化学工業で...

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