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フォトレジスト剥離液 アンラスト® RW-C
株式会社三若純薬研究所

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この製品について

特長

■ポイント

・ガラス基板の再生・洗浄に最適 ・樹脂に対して強力な剥離・洗浄性 ・浸漬法、スプレー法に対応 苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品です。樹脂に対して強力な剥離、洗浄性があります。浸漬法、スプレー法に対応します。毒物劇物取締法：劇物　PRTR法：該当

■キーワード

フォトレジスト剥離液, アンラスト® RW-C, ガラス基板再生, 樹脂レジスト剥離, ドライフィルム剥離, ポジレジスト剥離, 苛性アルカリ, 高沸点溶剤, 電子工業用途

  • シリーズ

    フォトレジスト剥離液 アンラスト® RW-C

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フォトレジスト剥離液 アンラスト® RW-C 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 処理条件 濃度 (%) 処理条件 温度 (℃) 処理条件 時間 対象物 使用されている業界 用途 容量・荷姿

アンラスト® RW-C

要見積もり

原液処理

50~70℃

5分前後

ガラス、ドライフィルム、ポジレジスト

電子工業

ガラス基板の再生・洗浄、樹脂レジストの剥離

20kg缶/ドラム/1tコンテナ/ローリー

この商品の取り扱い会社情報

株式会社三若純薬研究所

会社概要

株式会社三若純薬研究所は、工業用精密化学薬品の受託製造及び各種化学薬品製造・販売メーカーです。 受託生産では、依頼に応じた精密化学薬品精製や配合のほか、配合剤の提案、共同開発なども行っています。その他、電子・化学工業で...

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