RTP装置 RTP-1200Aシリーズ
株式会社インターテック販売

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この製品について

■特長・Premtek社のRTP装置は世界で500台以上の納入実績があり、その多くが化合物プロセスで使用されています。
・サセプタを使用してのチャンバー内のプロセスを実施するためSiC/Silicon/Sapphire/GaAs/InPなど多くの化合物ウエハの処理が可能です。また、化合物ウエハの反りが原因での温度測定不良を防ぐために、サセプタ上にTPを配置しています。
・上面ランプ、下面ランプ、サイドランプを複数のゾーンに分配し、各々のゾーンを個別にPIDコントロールすることにより高い面内均一性を実現しています。
・高性能多軸ロボットを搭載することにより位置決め、チャンバー、クーリング・ユニット間をスムーズに反動することが可能です。
・装置内はクラス100で保たれており、オープンカセットの他にSMIFカセットの使用が可能です。
・Windowsベースのソフトウエアは使いやすく、多くのプロセスレシピの登録や変更が容易で、ランタイム時のプロセスの状況を簡単に把握することが可能です。

型番
この商品には1種類の型番があります

シリーズ
RTP装置 RTP-1200Aシリーズ

取扱企業
株式会社インターテック販売

カテゴリ

熱源

加熱炉

加工・工作機器

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RTP装置 RTP-1200Aシリーズ品番1件

商品画像	品番	価格 (税抜)	工程	メーカー	仕様温度制御範囲	仕様温度制御方式	仕様面内温度均一性	仕様面内抵抗値均一性	仕様真空	仕様ウエハ寸法	仕様加熱ランプ	仕様ウエハ搬送	仕様プロセスガス系統数	仕様ウエハ位置合わせ	仕様昇温レート	仕様サセプタ	仕様装置外形寸法
	RTP-1200A	要見積もり	成膜	PREMTEK	200~1,250℃	マルチPIDコントロール	・≦±3％ (600℃以下) ・≦±1.5％ (600℃以上)	<1.5％~2.5％ (1σ)	〇	6~8	タングステン・ハロゲンランプ	フルオート (5軸ロボット)	4	・センタリング・OCR,アライナー (Op)	25℃/秒 (サセプタ使用時)	SiCコーティングカーボン	D: 1,580 × W: 1,500 × H: 1,800mm