Photomask Substrates
クアーズテック合同会社

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この製品について

■用途リソグラフィプロセス用フォトマスク

■材料高純度合成石英ガラス

■機能・特徴・最先端のArFをはじめリソグラフィ用基板として世界で最も多く採用
・高い紫外線透過率
・高いArFレーザー耐光性
・低複屈折率

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商品画像	品番	価格 (税抜)	かさ密度 g/cm3	曲げ強さ室温 MPa	曲げ強さ高温 MPa	ヤング率 GPa	ポアソン比	ビッカース硬度 GPa	線膨張係数 x10^-6/K	熱伝導度室温 W/ (m・K)	熱伝導度高温 W/ (m・K)	耐熱衝撃性⊿Tc ℃	最高使用温度 ℃	体積抵抗率 (室温) Ω・cm	比誘電率	誘電正接
	Photomask Substrates	要見積もり	2.2	105	149 (900℃)	72	0.17	9.7	0.65 (室温~1,000℃)	1.4	3 (900℃) (t2.0 mm)	＞1,000	1,000	10^18	3.58 (1MHz)	1.5x10^-4 (1 MHz)

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会社概要

クアーズテックグループは、110年以上にわたり、常に移り変わるテクニカルセラミックスの最先端を切り開いてきました。またその事業領域もエネルギーや半導体、医療のみならず、機械、食品・農業、輸送、航空宇宙・防衛分野など多岐に...