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PEGASUS 表面科学系シミュレータ スパッタリング・シミュレーション・モジュール SPUTSM
ペガサスソフトウェア株式会社



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この製品について

■特徴

スパッタリング・シミュレーション・モジュール (SPUTtering Simulation Module; SPUTSM) は、PIC-MCCMの計算結果 (ターゲットへの入射イオンフラックス、入射エネルギー、入射角) を参照し、SASAMALを用いて、スパッタリング粒子の放出フラックスや角度分布、エネルギーを計算するモジュールです。

■計算手法の概要

SPUTSMは、スパッタリング粒子の挙動を解析するために必要な、スパッタ粒子の放出角度分布や放出エネルギーなどを求めるモジュールです。SPUTSMは内部でSASAMALを用いているので計算の手法としてはSASAMALと全く同様です。 スパッタリング解析は、PEGASUSの各モジュールを組み合わせて次のような流れで行います。 PIC-MCCMによる解析 マグネトロン装置であれば予めMSSMによる静磁場解析を行います。その後、PIC-MCCMによるプラズマ解析を行い、ターゲットへ入射するイオンフラックスやイオンエネルギー、入射角度などを計算します。 SPUTSMによる解析 これらのイオン情報を入力としてSPUTSMによる計算を実行し、ターゲットから放出されるスパッタ粒子の放出フラックス、放出角度分布、放出エネルギーを得ます。 DSMCMによる解析 最後にスパッタ粒子の装置内の軌跡をDSMCMにより解析し、基板へ到達するスパッタ粒子のフラックスを求め、基板に堆積する膜厚分布を予測します。  SPUTSMは上記の1、2、3の流れで計算を行うためのインターフェースを持つ、SASAMALを核としたモジュールです。

■入力項目

PIC-MCCMの出力 (ターゲットへ入射するイオン情報) ターゲット材料の情報 (SASAMALと同様)

■出力項目

スパッタ粒子 放出フラックス分布 角度分布 エネルギー

  • シリーズ

    PEGASUS 表面科学系シミュレータ スパッタリング・シミュレーション・モジュール SPUTSM

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