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半導体工場向け製品 炭酸水製造供給装置-炭酸水製造供給装置
半導体工場向け製品 炭酸水製造供給装置-大日貿易株式会社

半導体工場向け製品 炭酸水製造供給装置
大日貿易株式会社

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この製品について

■商品情報

台湾トラスバル社炭酸水製造供給装置は、ヘンリーの法則を利用し高濃度の炭酸水を製造します。高濃度の炭酸水を希望する導電率に純水で希釈しながら供給します。導電率設定は高濃度炭酸水と希釈用純水の流量比率を調整して行います。トラスバル社この炭酸水製造供給装置の開発で5つの特許を申請中です。 台湾大手半導体メーカーで、国内大手メーカーの洗浄機への接続実績が多数あります。

■特徴

・高導電率 (低電気抵抗率) の炭酸水を大量に供給することが可能です。 ・流量が変化しても安定した導電率 (電気抵抗率) の炭酸水を供給できます。 ・1台で複数のユースポイントに供給可能です。 ・ユースポイントが停止している場合でも、炭酸水を廃棄する必要がありませんので、炭酸ガスや純水の無駄がありません。

■用途

・純水の帯電防止 (1～10μS/cm) ・純水の酸性化 (10μS/cm以上、33μS/cm時のpH4.3) ・アルカリ性洗浄水の中和化 ・洗浄水のOH基除去 ・洗浄水の反応促進 ・ポストAl/Cuドライエッチング洗浄

  • シリーズ

    半導体工場向け製品 炭酸水製造供給装置

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半導体工場向け製品 炭酸水製造供給装置 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 炭酸水流量 導電率設定範囲 導電率安定性 炭酸水用純水 希釈用純水 炭酸ガス 高純度N2 パージ用 CDA ポンプ冷却 電源 消費電力 設置面積 W×D 高さ 重量
半導体工場向け製品 炭酸水製造供給装置-品番-炭酸水製造供給装置

炭酸水製造供給装置

要見積もり

10~80L/分

0~40μS/cm

±2μS/cm @33μS/cm

・流量 30L/分
・圧力 0.42MPa

・流量 100L/分
・圧力 0.42MPa

・流量 30L/分
・圧力 0.7MPa

・流量 30L/分
・圧力 0.56MPa

・流量 30L/分
・圧力 0.56MPa

三相200V 50/60Hz

15A

1,100×1,200mm

2,000mm

450kg

この商品の取り扱い会社情報

大日貿易株式会社

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返答時間

1.9時間

会社概要

大日貿易株式会社は、クリーンルーム用ラテックス手袋やクリーンルーム用モップ、クリーン発泡ポリウレタンスワブなどクリーンルーム用品の販売、フッ素樹脂製ピンセットやフローテックス・スクリーンなどフッ素樹脂製品の販売を主な事業...

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  • 本社所在地: 東京都

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