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半導体製造プロセス用ランプヒーター-株式会社加島

半導体製造プロセス用ランプヒーター
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半導体製造プロセスでは、ウェハー洗浄液やエッチング液、レジスト剥離液等の薬液が用いられており、これらの薬液は通常、50~150℃の高温状態で使用されております。従来、薬液を使用する処理槽内で薬液を「熱伝導式加熱方式」で加熱する方法が採用されておりましたが、近年、薬液に対する品質向上が望まれるようになり、従来型の「熱伝導式加熱方式」ではなく、光源 (ランプヒーター) からの熱放射 (光) が無色透明石英ガラスを透過し薬液を加熱する、「熱放射式加熱方式」が採用されるようになってきました。 この「熱放射式加熱方式」に採用されている熱源 (光源) が「ランプヒーター」です。加島の「ランプヒーター」は、薬液が高い吸収率を維持する波長1.3~3.0umを効率よく放射し、コンパクトに設計する事ができ、非常に経済的なヒーターです。

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    半導体製造プロセス用ランプヒーター

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会社概要

株式会社加島は、パイプヒーターやカートリッジヒーター、遠赤外線ヒーターといった電熱ヒーターの設計・製造・販売、高周波利用加熱装置や高温流体加熱器など電熱機器の設計・製造・販売、電線・ホースマネジメントプロダクトの企画開発...

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