オゾン／UV表面処理装置 (細胞アレイヤ－) 加温・加湿機能付 Radical Vapor Reactor EKBIO-1100-EKBIO-1100

オゾン／UV表面処理装置 (細胞アレイヤ－) 加温・加湿機能付 Radical Vapor Reactor EKBIO-1100
荏原実業株式会社

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この製品について

加温・加湿機能付きオゾン／UV照射で、ラジカル反応を促進。オゾンと紫外線を利用した研究用の表面処理装置。

■特長本製品は、放電式オゾン発生器、オゾン発生UVランプ、オゾン分解器等から構成され、予熱・加湿用ヒータにより温度の影響を受けずに安定した条件でオゾン／UV処理が可能です。

■放電式オゾン発生器 (ON／OFF設定が可能です) 酸素パージ時に放電式オゾン発生器を作動させ、短時間でオゾン濃度を高めます。

■オゾン発生UVランプ (オゾンレスランプも使用可能です) 254nm以外に185nmの紫外線も放射し、オゾンを生成します。

■予熱用ヒータ低温時における紫外線ランプの性能低下を防止し、光量及び反応性を安定させます。

■加湿用ヒータシャーレに入れた水を加熱し、槽内の湿度を高め、オゾン／UVの効果を促進します。

■オゾン分解器処理後、槽内に残留したオゾンは、装置内蔵の分解器により安全に処理されます。

※槽内のオゾンは、内蔵されているオゾン分解器により分解しますので安全です。

■用途例・細胞培養器材用表面改質
・マウス多能性幹細胞のフィーダーフリー培養
・多能性幹細胞培養における接着基質削減

■構造本装置のご使用には、別途下記が必要です。

・酸素ボンベ (減圧弁) 
・窒素ボンベ (減圧弁) 
・配管／継手類など

■動作フロー装置内部の予熱・加湿から酸素 (オゾン) パージ、紫外線ランプ点灯 (オゾン／UV処理) 、オゾン分解 (窒素パージ) まで内蔵のタイマーにより自動で運転することが可能です。

■タイマー運転及び湿度の条件設定範囲について・酸素パージ：0～30分
・紫外線ランプ点灯時間：0～120分
・オゾン分解時間：10～30分
・温度設定 (予熱・加湿用水温設定) ：槽内温度：～40℃、水温：～40℃ ※予熱を目的として槽内を加温するための機能で槽内温度を常時一定に保つ機能ではありません。

型番
この商品には1種類の型番があります

シリーズ
オゾン／UV表面処理装置 (細胞アレイヤ－) 加温・加湿機能付 Radical Vapor Reactor EKBIO-1100

取扱企業
荏原実業株式会社

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オゾン／UV表面処理装置 (細胞アレイヤ－) 加温・加湿機能付 Radical Vapor Reactor EKBIO-1100 品番1件

商品画像	品番	価格 (税抜)	定格	消費電力	使用温度	槽内寸法	外形寸法	質量	構成	消耗品	オプション	付属品
	EKBIO-1100	要見積もり	AC100V 50Hz／60Hz (手動切換え)	270W	5~35℃ (結露がないこと)	W240 × H170 × D175 (mm)	W615 × H310 × D400 (mm)	約27kg	オゾン発生ランプ (6W×2本) 、放電式オゾン発生器、オゾン分解器、予熱用ヒータ (壁面) 加湿用ヒータ (底面)	紫外線ランプ (グローランプ) ／オゾン分解器／ファン	PEG基板／ステンレス製マスク／流量計 (酸素、窒素用)	ステンレスシャーレ (加湿用) 、棚板 (2枚)