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ダイヤモンド基板用ヘテロエピ成長装置取扱企業
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商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 到達圧力 | 排気系 | ベーキング温度 | 対応基板サイズ | Al セル | Si ビーム源 | RHEED | RFラジカルビーム源 | 設置スペース |
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ダイヤモンド基板用ヘテロエピ成長装置 |
要見積もり |
1×10^-7 Pa以下 (成膜室) |
800 L/sec TMP+SCP+N2 シュラウド+TSP |
MAX 200℃ |
MAX 1インチ |
ルツボ容量 : 5cc |
取り付けフランジ : CF114 |
加速電圧 : 30kV |
13.55MHz、500W |
2,000mm×800mm |