強化されたX’Pertプラットフォーム X'Pert³シリーズ X'Pert³ MRD-X'Pert³ MRD

強化されたX’Pertプラットフォーム X'Pert³シリーズ X'Pert³ MRD
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この製品について

■多目的研究開発XRDシステム長い歴史と高い評価を誇るMalvern Panalyticalの物質調査回折装置  (MRD)  は、新世代のX’Pert³ MRDとX’Pert³ MRD XLでも使用されています。 新しいプラットフォームの向上したパフォーマンスと信頼性により、X線散乱法研究用の分析能力と機能が強化され、次の分野に対応します。

・最先端材料科学
・科学および産業用薄膜技術
・半導体プロセス開発での計量特性評価

両方のシステムでは、100 mmまで  (X’Pert³ MRD)  または200 mmまで  (X’Pert³ MRD XL)  の完全なウェハーマッピングにより、同様に広範囲の用途に対処します。

■将来のニーズに対応する優れたシステムの柔軟性X'Pert³ MRDシステムは、研究からプロセス開発やプロセス管理に至るまで、高度で革新的なX線回折ソリューションを提供します。 使用されている技術により、すべてのシステムフィールドを既存のすべてのオプションと、今後のハードウェアとソフトウェの新しい機能に対応するようアップグレードできるようになります。

■X’Pert³ MRD標準的な研究・開発バージョンで、薄膜サンプル、ウェハー  (最大100 mmの完全マッピング)  、固体物質をカバーします。 高分解能分析機能は、ハイデンハインエンコーダーを使用する、新しい高分解能ゴニオメータの際立った精度によって改善されます。 

■X'Pert³ MRD XLX'Pert³ MRD XLは、半導体、薄膜、および最先端材料の各分野で要求されるすべての高分解能XRD分析能力に応える製品です。 最大200mmまでの完全なウェハーマッピングが可能 X’Pert3バージョンは、最長の耐用期間を誇る入射光コンポーネント  (CRISP)  を搭載し、空圧式シャッターとビーム減衰器により最大稼働時間を達成しています。 

洗練された自動ウェハー装填オプションにより最大300 mm径のウェハー分析が可能なX'Pert³ MRD XLは、多層薄膜構造の品質管理に対応した高度なツールとして機能します。

型番
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シリーズ
強化されたX’Pertプラットフォーム X'Pert³シリーズ X'Pert³ MRD

取扱企業
スペクトリス株式会社マルバーン・パナリティカル事業部

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強化されたX’Pertプラットフォーム X'Pert³シリーズ X'Pert³ MRD 品番1件

商品画像	品番	価格 (税抜)	エンクロージャー	ゴニオメータ	X線源検出器/ステージ
	X'Pert³ MRD	要見積もり	寸法: 1,370 (幅) x 1,131 (奥行き) x 1,947 (高さ) mm 重量: 1,150 kg	水平ゴニオメータ半径: 320mm 使用可能な最大角度範囲 (アクセサリによって異なる) -40°< 2θ <160°	Malvern Panalyticalの管球専用工場のクリーンルームで製造されたフルセラミックX線管球治具不要で簡単切替ができるライン・ポイントフォーカス