測定システムには試料の接触面としてのベースプレートがあります。基板の最大サイズは1,600mm x 1,200mmです。ベースプレートの非平坦度は100ミクロンです。ベースプレートの構造は試料の容易な出し入れを可能にしています。設置されているストップピンが基板の正確な端部再現性を保証しています。
コーティングの不均質反射によって、ソフトウェアは、表面上の高反射領域および低反射領域を同様に評価することができます。ワープの測定はソフトウェア制御の全自動で行われます。測定システムは全基板エリアを走査できます。この装置は振動に対して鈍感であり、製造条件下で使用することができます。
装置の動作は同梱品のコンピュータによって制御されます。ソフトウェアにはデータ取得と評価のための多くのオプションが搭載されています。異なる測定ルーチンを作成して保存することができます。測定後、基板の表面が評価され、グラフィカルに表示されます。